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酸・アルカリ溶液のリアルタイム計測が可能に
フィアモが金属不純物検出装置を「セミコンジャパン2006」で発表

[2006/12/26]

 フィアモは,2006年12月6日〜8日に開催されたセミコンジャパン2006(幕張メッセ)で,リアルタイム性を保持しつつ,感度を大幅に向上させた金属不純物モニタリング装置を,2007年2月に製品化することを発表した。

 半導体プロセスにおける金属不純物分析には,現在主にICP−MSやTXRFなどが用いられている。こうした分析装置は使用した薬液をサンプリングして確認する用途に用いられている。今回フィアモが発表したFIAMO MXは従来機種からの特長であるリアルタイム計測の利点を活かしつつ,硫酸や硝酸といった高濃度酸性溶液やアンモニア水などの高濃度アルカリ溶液中の金属不純物を50ppt〜100pptレベルで測定できるようになった。

 同社が実施したアンケート調査によると,ウエハーメーカーやデバイスメーカーといった顧客が,現状使用中の金属不純物の分析機器を選定する際に重視したポイントは,(1)分析感度,(2)測定できる金属種類,(3)抽出から測定,解析までの総時間,(4)装置の大きさ,(5)COO(Cost Of Ownership)の順であったが,今後選定する際には,総時間の短縮をより重視するとの回答結果であった。(図参照

図:セミコンジャパン2006で実施したアンケート結果に基づいて,
同社が作成現在金属分析機器を使っていると回答した31名の回答結果(複数回答可)

セミコンジャパン2006で実施したアンケート結果に基づいて,同社が作成現在金属分析機器を使っていると回答した31名の回答結果(複数回答可)

 今回フィアモが発表したFIAMO MXは,元々同社の持つコア技術FIA(フローインジェクション分析)技術による短時間での計測分析という利点を生かしつつ,代表的な金属元素であるFeやCuの分析感度をICP−MS並みにするというものであり,「現在,既に分析機器を購入しているユーザーにとっては既存機器と組み合わせるなどして,補完的に位置づけることができる。未だ従来型の金属不純物分析導入に踏み切れないユーザーにとっては新しい選択肢になるはず。」と同社 占部技術営業部長は語る。

 又,同社は,今後の開発ロードマップも併せて発表した。 この中で,新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO 技術開発機構)の助成を受けて開発してきた,薬液濃度を同時に測定分析する機能を,2007年春を目処に製品化していく計画を明らかにした。

図:同社 説明資料より
図:同社 説明資料より

 「当社のアンケート調査によると,凡そ95%近くの回答者が,薬液濃度と金属不純物の同時測定に対して期待を寄せている事がわかった。ビジネスとしての手ごたえを感じている。半導体のウエットプロセスの管理をもっと強化していきたい,というニーズがある。外部企業とも連携していきながら,システム化や洗浄装置との一体化など,この装置を使った管理システムとしての完成度を向上させ,顧客の期待に応えていきたい。」と抱負を語った。


【ニュースリリースはこちら】
  ・FIAMOの開発計画を発表 [2006年11月30日]
  【テクニカルノートはこちら】
    ・ウェーハ,半導体デバイス製造装置組み込みを想定した金属モニター共同開発の提案
  【関連記事】
    ・新材料導入,環境対策,APC,今後の半導体製造の必須テーマに対応した有力技術をフィアモが開発 [2005年9月9日]



記事要点掲載先:Silicon onlineTech-On!

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